HAFNIUM čestice za hemijsku opremu
Hafnijumske čestice koje se koriste u hemijskoj opremi su granulirni materijali izrađeni od visokog - čistoćnog metalnog kafića (obično veći od ili jednak 99,9%) kroz procese kao što su hidrogenacijska dehidrogenacija (HDH) ili atomizacija plazme (PA). Njegova je osnovna vrijednost nalazi se u odličnom otporu na koroziju, visoke karakteristike čistoće i visoke temperaturne stabilnosti, što ga čini ključnim materijalom za suočavanje s ekstremnim kemijskim okruženjima kao što su jake kiseline i visoke temperature.
Opis
Hafnijumske čestice koje se koriste u hemijskoj opremi moraju imati odličnu otpornost na koroziju i izuzetno visoku čistoću. Mora imati odličnu otpornost na jake kiseline kao što su dušična kiselina, hidrouklorovo kiselina, sumporna kiselina i visok - temperatura, sa godišnjom brzinom korozije manjim od 0,01 milimetara. Istovremeno, sadržaj nečistoća poput željeza, nikla i hloridnih jona (singl<50ppm) must be strictly controlled to avoid catalytic poisoning or reaction medium pollution, ensuring the purity and continuity of the chemical process.
Drugo, čestice trebaju imati stabilne visoke temperature - temperaturne performanse i prilagodljive fizičke morfologije. Može održavati strukturnu stabilnost u kiselom okruženju od 300-600 stepeni C, bez intergranularne tendencijske korozije, kao što su toplotno prskanje i sinterovanje kroz distribuciju veličine čestica (1-150 μm), i funkcionalne potrebe za preradom i funkcionalnim zahtjevima različitih scenarija aplikacija, poput refleksnih materijala, elektroda i filtriranih elemenata.
Osnovni proces
Proces proizvodnje je precizni proces koji integrira visoku razinu ({0}} čistoću metalurgiju, pripremu praha i post - tretman, čiji je cilj dobijati hafnijumske čestice s odličnim rezistencijom i kontroliranom kompozicijom i morfologijom.
1, priprema visokog - čistoće hafnijumskih sirovina
Odvajanje i pročišćavanje hafnijum cirkonijuma:
Korištenje tehnika odvajanja ekstrakcije (kao što su Mibk Thiocyanat sistem), visoko - čistoće hafnijum jedinjenja (poput HFCL ₄) odvojeni su od cirkonijuma Hafnium Co-a koji se pojavljuju rude.
Mještanje redukcije:
Korištenjem topiranja Kroll procesa ili topljenja elektrona (EBM), hafnijum spojevi su smanjeni i rastopljeni u ingote, s strogom kontrolom nečistoća poput kisika (o<600 ppm) and nitrogen (N<100 ppm) to ensure substrate purity of ≥ 99.9%.
2, proces oblikovanja praha
Metoda hidrogenacije dehidrogenacija (HDH) (glavni proces):
Hidrogenacija: Tretirajte Neodymium Ingot u vodoničnom atmosferi u 500-800 stepeni C da biste izazvali vešu za hidrogen.
Drobljenje i mljevenje: mehanički drobljenje do ciljane veličine čestica ispod zaštitne atmosfere.
Dehidrogenacija: dehidrogenacija se vrši u visokom vakuumu pri 800-1000 stepeni C da bi se dobilo nepravilno oblikovane čestice za hafnijum sa visokom specifičnom površinom.
Metoda atomizacije plazme (PA) (visok - zahtjev za performanse):
Topi se visoko - čistoće hafnijumske šipke elektrode u tekuće kapljice putem plazme luka u inertnoj atmosferi.
Kapljice se hlade u visoko sferne čestice tokom leta, sa dobrom fluidnošću i niskim sadržajem kisika, ali po višoj cijeni.
3, nakon obrade i ocjenjivanja
Screening i ocjenjivanje:
Korištenjem vibracijskog skrininga i tehnologije za klasifikaciju zraka za protok zraka, prah se precizno klasificira u potrebnu rasponu veličine čestica (kao što je 1-45 μ m, 45-150 μ m).
Površinski tretman
Pranje kiseline: Koristite mješovitu kiselinu (poput HF {{{{- hno α) za čišćenje površinskih oksida i kontaminanta.
Pasivacijski tretman: formirajte gust oksidni film za dodatno poboljšanje otpornosti na koroziju.
Ispitivanje performansi:
Analiza kompozicije: GDMS otkriva čistoću i sadržaj nečistoće.
Ispitivanje performansi: Provedite testove korozije (poput namakanja u 70% dušičnu kiselinu), testovi distribucije i protoka čestica.
4, ambalaža i skladištenje
Pakovanje treba obaviti u inertnoj atmosferi (kao što su Argon) ili vakuum okruženje radi sprečavanja oksidacije i apsorpcije vlage tokom transporta i skladištenja.
Oznaka s informacijama poput veličine čestica, čistoće, serijskog broja itd. Da bi se osigurala sljedivost i sigurna upotreba.
Hafnijumske čestice koje se koriste u hemijskoj opremi riješile su probleme materijalne korozije i zagađenja u jakim kiselinom, visokim temperaturama i visokim - čistoćom okruženjima kroz visoko - kontrolu čistoće, morfološkom dizajnu i optimizaciji površine. Njegova primjena značajno proširuje radni vijek hemijske opreme, poboljšava stabilnost procesa i čistoću proizvoda i neophodan je strateški materijal za visoku kemijsku opremu -.
Popularni tagovi: HAFNIUM čestice za hemijsku opremu, Kina Hafnium čestice za proizvođače kemijske opreme, dobavljača, tvornice, Tantalum za visokonaponske aplikacije, Tantalum za primjenu toplinske otpornosti, Tantalumski materijal za medicinsku opremu, Tantalum metalni prah za visokotehnološke aplikacije, Tantalski prah za proces sinterovanja, Tantalum obrada sirovine
Pošaljite upit
Moglo bi vam se i svidjeti
